Mikroskop sił atomowych

Zastosowanie:
Link do strony producenta:

    Pliki do pobrania otrzymasz mailowo po wypełnieniu formularza:

    Wypełnij to pole
    Wypełnij to pole
    Proszę wpisać prawidłowy adres e-mail.
    Wypełnij to pole
    Wypełnij to pole
    22 + 12 = ?
    Wpisz wynik równania, aby kontynuować
    Aby kontynuować, musisz zaakceptować warunki

    Mikroskop sił atomowych Redux – urządzenie Kanadyjskiej firmy ICSPI Corp.

    Służące do zaawansowanych pomiarów struktury powierzchni materiałów. Zasada działania aparatu Redux jest dokładnie taka sama jak w przypadku mikroskopu sił atomowych (AFM) nGauge, gdyż wykorzystuje on ten sam mikroukład elektromechaniczny.

    Największą zaletą urządzenia jest jego pełna automatyzacja. Od momentu umieszczenia próbki na stoliku pomiarowym aparat wykonuje wszystkie operacje samodzielnie. Umożliwia nam to stolik pomiarowy, który porusza się w płaszczyźnie XY i umieszcza próbkę bezpośrednio pod chipem. Automatyzacja znacznie obniża ryzyko uszkodzenia chipa w trakcie badania.

    Aparat posiada wbudowany mikroskop optyczny skierowany na chip, dzięki czemu na żywo możemy oglądać próbkę w trakcie pomiaru. Solidna obudowa znacznie ogranicza poziom interferencji z zewnątrz co pozwala osiągnąć poziom szumów rzędu 1,5 Å.

    Zalety mikroskopu sił atomowych Redux:

    • Bardzo prosta i szybka obsługa
    • Pełna automatyzacja
    • Dokładność pomiaru

    Zasada działania mikroskopów sił atomowych (ang. Atomic Force Microscope – AFM) polega na gromadzeniu danych o strukturze powierzchni, poprzez obserwację oddziaływań sondy skanującej określony obszar próbki. Reakcja sondy jest rejestrowana w taki sposób aby była znana wysokość każdego punktu skanowanej powierzchni charakteryzując w ten sposób jej topografię. W mikroskopii sił atomowych do fizycznego kontaktu z powierzchnią używa się sondy z bardzo małą końcówką, przypominającą igłę.

    W mikroskopie sił atomowych nGauge sonda oraz wszystkie czujniki i skanery zostały zintegrowane w pojedynczym chipie o wymiarach 1 mm x 1 mm. Czas trwania pomiaru wynosi od 16 sekund do 20 minut, w zależności od wielkości obszaru skanowania oraz wybranej rozdzielczości.

    zasada-dzialania-mikroskopu-AFM
    Skanowanie boczne
    Maksymalny obszar skanowania (XY) 20 µm × 20 µm
    Rozdzielczość skanera XY <0,5 nm
    Skanowanie pionowe
    Zasięg skanera (względem osi Z) 10 µm
    Poziom szumów (dynamiczny) <0,5 nm rms lub 1,5 Å
    Akwizycja danych – Szybkość skanowania
    Szybkie skanowanie (128 x 128 pikseli) 16 sekund
    Zwykłe skanowanie (256 x 256 pikseli) 80 sekund
    Wysoka rozdzielczość (512 x 512 pikseli) 5 minut
    Maksymalna rozdzielczość (1024 x 1024 pikseli) 20 min
    Specyfikacje urządzenia
    Komunikacja USB
    Zasilanie 100-240 V
    Maksymalna wielkość próbki 100 mm x 50 mm x 20 mm
    Maksymalny ciężar próbki 1 kg
    • Inżynieria materiałowa,
    • Elektrotechnika,
    • Polimery,
    • Nanotechnologia.

    Noty aplikacyjne producenta